武漢等離子體技術(shù)研究所 是從事等離子體技術(shù)理論、工藝試驗及設(shè)備制造的專業(yè)化研究所。我們所的宗旨是：“以不斷銳意進取的創(chuàng)新精神追求產(chǎn)品的完美；以極其認真負責的態(tài)度雕琢產(chǎn)品的質(zhì)量；我們的研究和工作始終將您放在第一位”。
我所匯萃了一大批長期從事等離子體技術(shù)研究和應(yīng)用的專業(yè)人才?，F(xiàn)有職工三十多人，其中擁有高、中級職稱員工占職工總數(shù)的70％以上。既有我國Zui早從事等離子體氮化研究的開拓者，也不乏稍后成長起來青年專家學者。擁有理論知識精、動手能力強的一批專家、教授和工程師，既是我所的驕傲，也是值得您信賴的保證。
我所除提供用戶所需要的等離子體理論和技術(shù)的咨詢服務(wù)外，亦可根據(jù)用戶的需要設(shè)計、開發(fā)相關(guān)產(chǎn)品。
承蒙各界人士的厚愛，我們生產(chǎn)各類等離子體滲氮設(shè)備，以優(yōu)美的外觀，良好的性能，可靠的質(zhì)量以及周到的售后服務(wù)獲得了用戶的一致贊譽。
我們采用Zui新功率開關(guān)器件IGBT研制的具有獨創(chuàng)性并具國內(nèi)先進水平的大功率等離子體滲氮用脈沖電源通過武漢市科學技術(shù)委員會組織的鑒定。該電源與常規(guī)直流電源相比較，節(jié)能在30％以上，有利于在深孔、窄縫、微孔內(nèi)進行離子滲氮。并可與多弧離子鍍膜設(shè)備、磁控濺射設(shè)備及等離子體增強化學氣 相沉積（PCVD）等設(shè)備配套使用。其成果獲“武漢市科技進步二等獎”。經(jīng)專家評審，被認定為“1998年度新產(chǎn)品?！蹦壳拔宜圃斓牡入x子體滲氮設(shè)備市場占有率達70%。而新型LDMC脈沖電源等離子體滲氮設(shè)備的市場占有率達90%。
我所現(xiàn)已開發(fā)的產(chǎn)品有：
* LD系列、LDMC系列等離子體氮化設(shè)備：適用于各類可氮化鋼、鑄鐵等，以提高材料的表面硬度、抗疲勞、抗腐蝕、耐磨及減噪等機械性能。
* 多弧離子鍍膜設(shè)備：適用于在各類工具鋼表面涂鍍TiN；TiC；TiNC；ZrC等各種硬質(zhì)膜，能極大的提高工磨具的使用壽命，（例如：可提高鉆頭的使用壽命3-8倍，銑刀的使用壽命1-3倍。）亦可用于金屬表面涂鍍裝飾膜，以滿足人們對裝飾的需求。
* PCVD化學氣相沉積設(shè)備：適用于各類工磨具的化學氣相沉積，可涂鍍TiNC膜，以提高工磨具的使用壽命。
* 等離子體滲金屬設(shè)備：用于在金屬表面滲入各類難熔金屬，以獲得不同的良好的機械性能要求。


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